Используется для удаления дисперсионного (липкого) слоя, остающегося после полимеризации геля в UV-аппарате. Может использоваться для очищения гелевых кистей, протирания UV-ламп и рефлекторов внутри UV-аппаратов. Средство совместимо с акриловой и гелевой технологиями. Только для профессионального использования.